掃描電鏡是通過電子束掃描樣品表面，產生高分辨率的圖像，從而觀察樣品的表面形貌的。以下是SEM掃描電鏡觀察樣品表面形貌的詳細步驟和注意事項：

一、樣品準備

導電性處理：

對于非導電樣品，通常需要進行鍍膜處理，使用金、鉑等導電材料沉積一層薄膜，以避免電子積累（charging effect）干擾成像。

鍍膜方法包括真空蒸發鍍膜法、離子濺射鍍膜等。

固定樣品：

樣品需要牢固地固定在樣品臺上，以避免在真空環境中移動。

可以使用導電膠或樣品夾來固定樣品。

干燥處理：

樣品須干燥，特別是生物樣品或其他含水樣品，避免在真空環境中發生水汽化。

二、掃描電鏡設置與調整

電子束電壓：

根據樣品的材料和厚度選擇合適的加速電壓（通常在1kV到30kV之間）。

較低的電壓適合輕元素和表面敏感的樣品，而較高的電壓適合觀察更深的結構。

工作距離（WD）：

工作距離會影響成像分辨率和視場深度。

較短的工作距離有助于提高分辨率，而較長的工作距離有利于獲取更深的景深。

束流強度：

束流強度決定了電子束的電流大小，影響成像的信噪比。

較高的束流有助于增強圖像信號，但可能導致樣品損傷，尤其是對敏感樣品。

三、成像與觀察

圖像獲取：

通過SEM掃描電鏡的電子束逐行掃描樣品表面，生成形貌圖像。

可以調節掃描電鏡的焦距、倍率、視角來獲取不同的圖像。

成像模式：

二次電子成像（SEI）：用于觀察樣品表面的細節和微觀結構。SE信號主要來自樣品表面，具有高分辨率，非常適合形貌觀察。

背散射電子成像（BSEI）：用于觀察樣品的相對密度變化。BSE信號來自樣品內部，提供樣品成分信息，尤其是不同元素分布的對比。

圖像分析：

利用SEM掃描電鏡，可以清楚地觀察到樣品表面的微觀結構特征，如顆粒、孔隙、裂紋等。

可以通過對比不同區域的圖像來分析樣品的形貌差異。

四、測量與校準

放大倍數校準：

掃描電鏡的圖像通常會帶有放大倍數標記，顯示圖像對應的實際尺寸。

確保SEM掃描電鏡的放大倍數正確，以便獲得準確的尺寸測量結果。

比例尺：

圖像通常會自動顯示一個比例尺，顯示放大倍數下每一單位長度的實際尺寸（例如，10μm）。

比例尺是測量尺寸時的重要依據。

測量工具：

使用掃描電鏡軟件中的測量工具，可以手動在圖像上選擇兩個點之間的距離來測量尺寸。

常見的測量方式包括線性距離測量和區域測量。

五、注意事項

樣品穩定性：

樣品在高真空環境和強烈電子束照射下的穩定性至關重要。

高能電子束可能會導致某些樣品的蒸發或升華，特別是對于有機材料或某些易揮發元素。

敏感樣品保護：

對于敏感樣品，需要采取適當的預處理和保護措施，如使用低電壓掃描或冷臺技術。

避免干擾：

某些元素在電子束照射下容易形成揮發性化合物，這可能改變樣品的化學和物理狀態，并導致SEM掃描電鏡真空系統的污染。

放射性樣品可能會發射α粒子、β粒子或γ射線，這些輻射可能會干擾掃描電鏡的檢測器，導致圖像噪聲增加。

通過以上步驟和注意事項，SEM掃描電鏡可以有效地觀察樣品的表面形貌，為科學研究提供重要的信息和數據支持。